抛光液
![抛光液](/UploadFile/infouppic/728380491.jpg)
英文名
polishing slurry
抛光液
CMP(Chemical Mechanical Polishing)
化学机械抛光
这两个概念主要出现在半导体加工过程中,最初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是及其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,完美性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为完美的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是目前能够实现全局平面化的唯一有效方法。
制作步骤
依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:
1、抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。
2、抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。
硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。
抛光液
蓝宝石
抛光液
砷化镓
抛光液
铌酸锂
抛光液
锗抛光液
集成电路阻挡层抛光液
应用
1、LED行业
目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。
2、半导体行业
CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供"光滑"的表面,但却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化,而化学机械抛光技术解决了这个问题,它是目前唯一的可以在整个硅圆晶片上全面平坦化的工艺技术。
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多晶金刚石抛光液
多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。
主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。
氧化硅抛光液
氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。
广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
氧化铈抛光液
氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。
适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。
氧化铝和碳化硅抛光液
是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。
美光1#3#抛光水 模具汽车抛光液
- 产品规格:
- 1.89L/罐
- 产品数量:
- 10000
- 经营模式:
- 贸易型
- 执照认证:
- 未认证
- 最近更新:
- 2024/7/2 16:01:28
- 经营品牌:
- LR色浆
1#研磨剂 3#精抛剂 玻璃钢、树脂、塑胶、汽车专用抛光液  ¥85元/罐所在地:广东东莞
东莞市文铭商贸有限公司
铜材抛光液
- 产品规格:
- MS0308-1
- 产品数量:
- 1000000000
- 经营模式:
- 生产型
- 执照认证:
- 未认证
- 最近更新:
- 2022/3/19 10:38:08
- 经营品牌:
一、产品简介: 本品是属于双氧水型化学抛光剂 。与市面同类产品的不同是本品添加了特殊的双氧水稳定剂 ,工作液十分稳定。在80度以下稳定不会出现快速分解失效的现象。同时经本高效抛光液 纳米级抛光液100
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- 经营模式:
- 生产型
- 执照认证:
- 未认证
- 最近更新:
- 2023/2/10 8:43:05
- 经营品牌:
- 东莞创力
高效抛光液纳米级抛光液100 纳米级抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别适合用于铌酸 锂、钽酸 锂、蓝